Silicijev nitrid važan je strukturni keramički materijal. To je supertvrda tvar koja je sama po sebi podmazujuća i atomski je kristal; otporan je na oksidaciju na visokim temperaturama. Štoviše, također može izdržati vruće i hladne udare. Može se zagrijati na više od 1000 stupnjeva na zraku i neće se slomiti čak ni ako se brzo ohladi, a zatim brzo zagrije. Upravo zato što keramika silicijevog nitrida ima takve karakteristike, ljudi je često koriste za proizvodnju mehaničkih komponenti kao što su ležajevi, lopatice turbina, mehanički brtveni prstenovi i kalupi. Štoviše, keramika silicijevog nitrida koja nije jednostavna za provođenje topline koristi se za izradu grijaće površine komponenti motora, što ne samo da može poboljšati kvalitetu dizelskih motora, uštedjeti gorivo, već i poboljšati toplinsku učinkovitost.
Keramički materijali od silicijevog nitrida imaju svojstva kao što su visoka toplinska stabilnost, jaka otpornost na oksidaciju te velika veličina i gustoća proizvoda. Budući da je silicijev nitrid kovalentni spoj s visokom čvrstoćom veze i može stvoriti oksidni zaštitni film u zraku, također ima dobru kemijsku stabilnost i neće se oksidirati ispod 1200 stupnjeva. Zaštitni film formiran na 1200~1600 stupnjeva može spriječiti daljnje Oksidira se i ne kvasi ga niti nagrizaju mnogi rastaljeni metali ili legure kao što su aluminij, olovo, kositar, srebro, mjed, nikal itd., ali može biti korodiran rastaljenim tekućine poput magnezija, legure nikla i kroma, nehrđajućeg čelika itd.
Keramički materijali od silicijevog nitrida mogu se koristiti u visokotemperaturnim inženjerskim komponentama, vatrostalnim materijalima u metalurškoj industriji, komponentama otpornim na koroziju i komponentama za brtvljenje u kemijskoj industriji, te noževima i alatima za rezanje u strojnoj industriji.
Budući da silicijev nitrid može stvoriti jaku vezu sa silicijevim karbidom, glinicom, torijevim dioksidom, bor nitridom itd., može se koristiti kao vezni materijal i modificirati u različitim omjerima.
Osim toga, silicijev nitrid također se može koristiti u solarnim ćelijama. Nakon presvlačenja filma silicijevog nitrida metodom PECVD, on se ne može koristiti samo kao antirefleksijski film za smanjenje refleksije upadne svjetlosti. Tijekom procesa taloženja filma silicijevog nitrida, atomi vodika produkta reakcije ulaze u film silicijevog nitrida i silicijevu pločicu, što igra važnu ulogu. Uloga pasivacijskih nedostataka. Omjer atomskog broja silicijevog nitrida i silicija ovdje nije striktno 4:3, ali fluktuira unutar određenog raspona u skladu s različitim uvjetima procesa. Različiti atomski omjeri odgovaraju različitim fizičkim svojstvima filma.
